光学冷加工中磨料的选取在浮法抛光的去除机理  

      浮法抛光表面粗糙度可达到亚纳米量级
，接近原子尺寸，工件材料的去除是原子水平上进行的。工件表面原子在磨料微粒的撞击作用下脱离工件主体
，从而被去除。原子的去除过程
，是磨料与工件在原子水平的碰撞、扩散、填补过程
。  

    根据去除机理
，利用外表面层与主体原子结合能的差异，任何材料都可作为磨料去除工件表层原子
，可以获得无晶格错位与畸变的表面。

    在进行浮法超光滑表面的抛光中，选择合适的材料作为磨料很重要。一般用于浮法抛光的磨料为粒度约7nm的SiO2微粉。    

    综上所述

，浮法抛光技术的关键在于：

        高面形精度的锡盘，以此来保证工件面形的高精度
。    

        粒度小于20nm的磨料，目的在于增大工件与磨盘的接触面积，增多磨料颗粒与工件表面的碰撞机会

，达到原子量级去除的目的。    

        抛光液将工件和磨盘浸没
，靠流体作用形成工件与磨盘间液膜
，为磨料颗粒与工件的碰撞提供环境

。