氧化镁（Mg0）单晶基片广泛应用在多个薄膜技术领域中
。如用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等
。由于MgF2单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小，且能得到大面积的基片（直径2"及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一
。 可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。具有很大的现实及潜在应用市场
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详细参数

主要性能参数 生长方法 弧熔法 晶体结构 立方 晶格常数 a=4.130 Å  熔点（℃） 2800 纯度 99.95% 密度（g/cm3） 3.58 硬度 5.5（mohs） 热膨胀系数（/℃） 11.2x10-6 晶体解理面 <100> 光学透过 >90%（200~400nm），>98%（500~1000nm） 介电常数 ε= 9.65 热导率（卡／度 厘米 秒） 0.14  300°K 尺寸 10x3 ，10x5 ，10x10，15x15，，20x15，20x20， dia2” x 0.33mm dia2” x 0.43mm 15 x 15 mm 厚度 0.5mm，1.0mm 抛光 单面或双面 晶向 <001>±0.5º 晶面定向精度: ±0.5° 边缘定向精度: 2°（特殊要求可达1°以内） 斜切晶片 可按特定需求，加工边缘取向的晶面按特定角度倾斜（倾斜角1°－45°）的晶片 Ra: ≤5Å（5µm×5µm） 主要特点  由于MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小  ，且能得到大面积的基片（直径2英吋及更大），所以是当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。 主要用途 用于制作磁学薄膜、半导体薄膜、光学薄膜和高温超导薄膜等,也可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件。 包装 100级洁净袋，1000级超净室