氧化铝陶瓷基片

陶瓷基片，又称陶瓷基板，是以电子陶瓷为基的，对膜电路元件及外贴切元件形成一个支撑底座的片状材料
。陶瓷基片具有耐高温
、电绝缘性能高、介电常数和介质损耗低、热导率大、化学稳定性好
、与元件的热膨胀系数相近等主要优点，但陶瓷基片较脆，制成的基片面积较小，成本高
。

实际生产和开发应用的陶瓷基片材料有Al2O3
、AlN、SiC
、BeO
、BN、氧化锆和玻璃陶瓷等。其中

，BeO和SiC热导率很高（³250W/m.K）
，但BeO因具有毒性
，应用范围小
，故产量低；SiC因体积电阻较小（<1013W·cm）、介电常数较大（40）、介电损耗较高（50），不利于信号的传输，且成型工艺复杂
、设备昂贵，故应用范围也很小；AlN陶瓷基片是新一代高性能陶瓷基片，具有很高的热导率（理论值为319W/m.K，商品化的AlN基片热导率大于140W/m.k）、较低的介电常数（8.8）和介电损耗（～4×104）、以及和硅相配比的热膨胀系数（4.4×10－4/℃）等优点，但由于成本居高

，一直没能大规模应用；Al2O3陶瓷基片虽然热导率不高（20W/m.K）
，但因其生产工艺相对简单，成本较低，价格便宜，成为目前最广泛应用的陶瓷基片.

一般采用流延成型法制备氧化铝陶瓷基片，目前发展到使用非苯系
、无毒
、无公害溶剂体系，对环境无污染，且流延坯片的干燥速率易于控制，配料中使用的溶剂可回收循环利用
。在流延生坯上可以冲制各种形状和孔

，然后进行烧成，可在连续式空气气氛窑炉中同时完成排胶和烧成的生产方式
。96%氧化铝陶瓷基片材料中添加了合适的矿物原料作为助熔剂，烧成温度低到1580℃~1600℃，产品密度即可达3.75g/cm3以上。对于尺寸精度要求较高的产品
，可以在烧成后
，以激光加工方法
，在基片上划线、打孔
，精度达到±0.05mm。

纯度:96%,

颜色:乳白色

尺寸:100x100x1.0mm以内,可以根据客户的要求切割

表面粗糙度:< 0.01um(抛光后); <1um(毛坯)