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          半精抛工艺在抛光程序的取决了机械光学镜片的抛光过程

          发表日期:2015-09-05 发布者:厦门云顶贵宾会玻璃有限公司 [返回]

          使指定波段的光线在膜层上大部分或接近全部反射出去 ,在图纸上用符号  和  表示。根据膜层材料,可分为两类:金属反射镜和电介质反射镜。模具要想获得高质量的抛光效果,最重要的是要具备有高质量的油石 、砂纸和钻石研磨膏等抛光工具和辅助品 。光学玻璃的抛光程序的选择取决于前期加工后的表面状况,如机械加工、电火花加工,磨加工等等。机械抛光的一般过程如下:  


          厦门云顶贵宾会专业生产光学玻璃

              
          (1)粗抛 经铣、电火花、磨等工艺后的表面可以选择转速在35 000—40 000 rpm的旋转表面抛光机或超声波研磨机进行抛光 。常用的方法有利用直径Φ3mm 、WA # 400的轮子去除白色电火花层。然后是手工油石研磨,条状油石加煤油作为润滑剂或冷却剂。一般的使用顺序为#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 。许多模具制造商为了节约时间而选择从#400开始。  同时提高抛光速率近2倍;并提高玻璃抛光表面的粗糙度及“亮度” 。抛光下盘以后,可存放数天或10多天时间,便于零件运转和下道工序加工 。 
            
          (2)半精抛 半精抛主要使用砂纸和煤油。砂纸的号数依次为:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500 。实际上#1500砂纸只用适于淬硬的模具钢(52HRC以上),而不适用于预硬钢 ,厦门云顶贵宾会光学玻璃认为因为这样可能会导致预硬钢件表面烧伤。因为硅胶易溶于碱性溶液,在碱性溶液中就能较稳定的形成胶体状态。但硅胶不易溶于酸性溶液,这使硅酸胶体虽结成大颗粒沉淀,这样无疑是对抛光不利的。所以抛光液的pH值高时,则硅胶稳定,不利于抛光 。   
              

          (3)精抛 精抛主要使用钻石研磨膏。若用抛光布轮混合钻石研磨粉或研磨膏进行研磨的话 ,则通常的研磨顺序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm光学冷加工生产操作9μm的钻石研磨膏和抛光布轮可用来去除#1200和#1500号砂纸留下的发状磨痕。接着用粘毡和钻石研磨膏进行抛光,顺序为1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。而要改变光学玻璃组成结构,以改善其物理化学性能,势必影响其光学性能,这就失去采用此类玻璃的实际意义了。


          厦门云顶贵宾会光学玻璃认为,对于圆形的光学零件,精磨抛光完工之后一般都还要进行磨边,使其侧圆柱面尺寸满足装配要求 ;对于球面透镜,磨边还有一个重要作用 :就是校正透镜在研磨抛光过程中很难完全避免的偏心,即校正两球心连线(光轴)与外圆对称轴(几何袖)的偏离 。


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